CMP抛光垫

日本千代田株式会社生产CIEGAL 系列研磨垫,具有高均匀度和稳定性,在半导体行业有广泛应用
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产品特点

  • 品牌与用途:核心产品为CIEGAL 系列研磨垫,主要用于半导体材料(SiSiC 等)、化合物半导体(GaAsInP 等)、蓝宝石、玻璃、金属等材料的化学机械研磨(CMP)及常规研磨。
  • 研磨阶段覆盖:全面覆盖1 次研磨(粗磨)、2 次研磨(中磨)、仕上研磨(精磨) 三个核心环节,可根据加工需求匹配对应型号。
  • 材质分类:包含 Suede(绒面)、Non-Woven fabric(无纺布)、Hard Urethane(硬质聚氨酯)三类基础材质,适配不同硬度与研磨效率需求。

产品用途

产品适用于 SiSiCGaAsInPGaN、蓝宝石(Sapphire)、玻璃(Glass)、金属(Metal)等多种材料,覆盖1 次研磨、2 次研磨、最终研磨(精密研磨)三个阶段。

产品详情



CIEGAL 研磨垫产品详细参数与特征

CIEGAL 型号

适用材料(application

1 次研磨

2 次研磨

最终研磨

产品特征(feature

厚度(Thickness

硬度(Hardness

毛长(Nap length

开口径(Pore size

7355-000FE

Si CMPSiCGeGlass

仕上研磨标准(final polishing standard

1.49mm

58°

530μm

65μm

7355-000ZCM

SiCMP

开口径小、短毛(small pore, short nap

1.30mm

61°

400μm

45μm

PS8000

SiGaAsInPCMP

高通用性(high versatility

1.50mm

55°

530μm

70μm

PS8410-VFB2

GaAsInP

开口径小、长毛(small pore, long nap

1.85mm

56°

700μm

45μm

183 (183EX)

SiCrystalMetalSapphire

高硬度、高研磨力(high hardness, high rate

1.37mm

70°

500μm

80μm

193 (193EX)

SiGaAsSiC

安定研磨能力(stable polishing ability

1.45mm

58°

500μm

80μm

PS1200

Glass

表面柔软、酒红色(soft surface, wine color

0.80mm

58°

500μm

50μm

7355-000FE-SL0.8t

Glass

薄型标准(thin standard

0.80mm

58°

530μm

65μm

XA-5

SiGlass

表面柔软、白色绒面(soft surface, white suede

1.45mm

55°

530μm

40μm

MP210

Metal

薄型薄膜基材绒面(thin film-based suede

0.64mm

79°

400μm

80μm

PV6600

LtLnMetalSapphire

2 次研磨标准(2nd polishing standard

1.13mm

78°

PV2800

SiGaAsSapphire

高硬度(high hardness

1.35mm

85°

PV2900

SiSapphire

最高硬度(highest hardness

1.35mm

90°

U-3500SPN

Glass

含铈(contains cerium

1.50mm

80°

U-3500PN

GlassCrystal

含铈、开口径小(contains cerium, small pore

1.50mm

90°

U-2500

SiCSapphireGaN

无铈、开口径小(cerium free, small pore

1.50mm

90°





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